单片式晶圆清洗设备
在半导体wafer的制造工艺中，对可能造成缺陷的particle，采用药液或是DIW进行清洗的设备。
特长
- 高性能
单片清洗方式，实现高洁净，高均一性，没有交叉污染 - 低COO
机能水的使用，降低药液的Cost
采用少量药液清洗系统。
占地面积小 - 环境保护
脱RCA清洗，少药液系统
常温清洗，省能量
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单片式晶圆清洗设备
Single Wafer Wet Cleaning Equipment