单片式光清洗设备

Single Wafer Photomask Wet Cleaning Equipment

单片式光清洗设备

单片式光清洗设备

在半导体使用的Photomask制造工艺中,对Photomask表面附着的Particle采用药液或DIW进行清洗的设备。

特长

  • 高性能
    采用高效的高温药液清洗,
    自主研发的超声波清洗系统达到高效的清洗能力
    Metal Free的结构,保证优秀的耐药性
  • 低COO
    单片式Spin清洗,减低DIW和药液的使用量
    占地面积小
  • 扩展性
    可追加SPIN Unit,UV Unit,IPA Dry Unit。
    可对应各类通讯系统

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