单片式光清洗设备

在半导体使用的Photomask制造工艺中,对Photomask表面附着的Particle采用药液或DIW进行清洗的设备。
特长
- 高性能
采用高效的高温药液清洗,
自主研发的超声波清洗系统达到高效的清洗能力
Metal Free的结构,保证优秀的耐药性 - 低COO
单片式Spin清洗,减低DIW和药液的使用量
占地面积小 - 扩展性
可追加SPIN Unit,UV Unit,IPA Dry Unit。
可对应各类通讯系统
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单片式光清洗设备
在半导体使用的Photomask制造工艺中,对Photomask表面附着的Particle采用药液或DIW进行清洗的设备。
特长
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