フォトマスク
エッチング装置
次世代先端プロセス開発のカギとなる微細なパターンを形成する、フォトマスク製造用エッチング装置です。
特長
- NIL・EUVマスク・光マスク、それぞれに対応したプロセス技術を提供
- 最大４基のプロセスチャンバーを搭載し、フレキシブルな製造プロセスに対応。
- 最先端光マスクのCDU性能に対し、独自のプラズマ源によって性能を達成。
- 10nmの要求微細欠陥を減少させるテクニカルオペレーションを提案。
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フォトマスクエッチング装置